[Ben Krasnow] invadiram um método de limpeza de lados usando o plasma. Sua configuração usa uma bomba de vácuo mecânica para evacuar um frasco de sino. Este frasco de sino é embrulhado com uma bobina de cobre, que é conectada a um transmissor RF. Transmitindo RF na bobina, o plasma é criado dentro do frasco do sino.
A limpeza de plasma é usada extensivamente na indústria de semicondutores. Dependendo do gás usado, ele pode ter efeitos de limpeza diferentes. Por exemplo, um ambiente rico em oxigênio é muito eficaz em derrubar ligações orgânicas e remover hidrocarbonetos. É usado após a limpeza manual para garantir que todas as impurezas nos solventes usados para limpeza são totalmente removidas. De acordo com [Ben], é possível obter uma superfície atomicamente limpa usando esse processo e até mesmo remover o substrato se os níveis de energia forem muito altos.
Essas máquinas são tipicamente caras e especializadas, mas [Ben] conseguiu cozinhar um em seu banco. Após o intervalo, confira uma caminhada de vídeo através do limpador de plasma [Ben]